L'effet acaricide du soufre sur l'Acarien phytophage Tetranychus urticae a été évalué en laboratoire en conditions contrôlées. Trois stades du ravageur (?ufs, protonymphes, adultes) ont été soumis à des applications de deux doses différentes de Thiovit microbilles (spécialité contenant 80 % de soufre) à trois températures et quatre degrés d'hygrométrie, soit 24 modalités différentes par stade du ravageur.
L'effet acaricide du produit est total sur les protonymphes (stade immature), quelles que soient la dose, la température et l'hygrométrie. Il est très fort sur adultes sauf à 20 °C pour les faibles hygrométries (30 et 50 %), et a de plus un effet sur leur fécondité et la viabilité de leur descendance. Sur les ?ufs, l'effet (négligeable à 20 °C quelles que soient l'hygrométrie et la dose, et aussi à 30 et 50 % d'hygrométrie quelles que soient les autres conditions), augmente avec la température et l'hygrométrie.
Ces résultats montrent l'existence d'un effet acaricide sur une espèce précise, mais aussi les conditions qui lui permettent ou non de se manifester.
The miticide effects of sulphur on the Tetranychus urticae spider mite have been evaluated under controlled laboratory conditions. Three development stages of the pest (egg, protonymph, adult) were subjected to two different concentrations of Thiovit microbilles (a product with an 80 % sulphur content), at three different temperatures and four different hygrometric levels, i.e. 24 different combinations per development stage.
The product has a very high miticide effect at the protonymph (immature stage) whatever the dosage, temperature or hygrometric conditions. The effects are also high on adults, except at a temperature of 20 °C with a low hygrometric level (30 % and 50 %). Adult fertility and the vitality of the offspring are both also affected. As far as the eggs are concerned, efficacy is negligible, but increases in line with temperature and hygrometric increases.
These results clearly indicate the miticide effects of sulphur on a precise species and, also, the optimal conditions for application.
